1. 스펙트럼의 선폭에 대해서
키르히호프의 법칙에 의해 광원으로부터 나오는 빛에 대한 스펙트럼은 방출 스펙트럼으로 나타나며, 광원으로부터 우리에게 빛이 도달하는 과정에 빛의 진로를 방해하는 물질이 있을 경우, 흡수 스펙트럼으로 나타나게 된다. 아래 [그림 1]에서 (A)는 방출 스펙트럼을 나
선폭기술은 모든 반도체에 필수적으로 내장되는 트랜지스터의 간격을 얼마만큼 줄일수 있느냐를 결정한다. 미세회로선폭의 간격이 좁아질수록 동일한 크기의 다이에 더 많은 트랜지스터를 내장해 반도체 집적도를 높일 수 있기 때문이다. 또한 트랜지스터의 간격이 좁아질수록 전자이동이 빨라져 동
선폭 50nm(나노미터·1nm는 10억분의 1m)급의 미세 패턴(사진)을 대량 제작할 수 있는 차세대 기술과 관련 장비를 국내 연구진이 개발했다.
한국기계연구원 나노공정장비 연구센터장 이응숙(李應淑·47) 박사는 “현재 반도체 미세회로 제작에 쓰이는 광 리소그래피 기술을 대신할 수 있는 ‘자외선 나노 임
선폭의 나노패턴을 경제적으로 제작할 수 있는 기술이 국내에서 개발됐다.
과학기술부(부총리 겸 장관 오명)의 21세기 프론티어연구개발사업 나노메카트로닉스기술개발사업단(단장 이상록)의 지원을 받은 한국기계연구원(원장 박화영) 이응숙 박사 연구팀은 고비용 광리소그래피 공정을 대체할 자외
[Why ASML: Innovation-driven enterprises]
직장을 선택할 때 고려하는 우선적인 가치는 혁신을 통한 성장을 추구하는 회사인지를 판단하는 것입니다. 세계 반도체 시장은 공정의 미세화를 위해 고군분투 중이며, 이러한 선폭 미세화 경쟁의 한가운데 ASML이 자리잡고 있습니다. ASML은 EUV 공정을 이용해...