대학레포트
  • 스펙트럼의 선폭 증가의 종류
    1. 스펙트럼의 선폭에 대해서 키르히호프의 법칙에 의해 광원으로부터 나오는 빛에 대한 스펙트럼은 방출 스펙트럼으로 나타나며, 광원으로부터 우리에게 빛이 도달하는 과정에 빛의 진로를 방해하는 물질이 있을 경우, 흡수 스펙트럼으로 나타나게 된다. 아래 [그림 1]에서 (A)는 방출 스펙트럼을 나
    2016-05-10 | 1,000원 | 4p | 충돌선폭증가 자연선폭증가 열적 도플러 선폭 증가 제만선폭증가 난류선폭증가   스펙트럼의 선폭 증가의 종류
  • Lithography
    선폭기술은 모든 반도체에 필수적으로 내장되는 트랜지스터의 간격을 얼마만큼 줄일수 있느냐를 결정한다. 미세회로선폭의 간격이 좁아질수록 동일한 크기의 다이에 더 많은 트랜지스터를 내장해 반도체 집적도를 높일 수 있기 때문이다. 또한 트랜지스터의 간격이 좁아질수록 전자이동이 빨라져 동
    2016-04-16 | 800원 | 7p | Lithography
  • 리소 그래피 Lithography3
    선폭 50nm(나노미터·1nm는 10억분의 1m)급의 미세 패턴(사진)을 대량 제작할 수 있는 차세대 기술과 관련 장비를 국내 연구진이 개발했다. 한국기계연구원 나노공정장비 연구센터장 이응숙(李應淑·47) 박사는 “현재 반도체 미세회로 제작에 쓰이는 광 리소그래피 기술을 대신할 수 있는 ‘자외선 나노 임
    2016-04-16 | 800원 | 6p | 리소 그래피 Lithography3
  • 리소그래피2
    선폭의 나노패턴을 경제적으로 제작할 수 있는 기술이 국내에서 개발됐다. 과학기술부(부총리 겸 장관 오명)의 21세기 프론티어연구개발사업 나노메카트로닉스기술개발사업단(단장 이상록)의 지원을 받은 한국기계연구원(원장 박화영) 이응숙 박사 연구팀은 고비용 광리소그래피 공정을 대체할 자외
    2016-04-16 | 1,000원 | 14p | 리소그래피2
  • ASML - CSE 합격 자소서
    [Why ASML: Innovation-driven enterprises] 직장을 선택할 때 고려하는 우선적인 가치는 혁신을 통한 성장을 추구하는 회사인지를 판단하는 것입니다. 세계 반도체 시장은 공정의 미세화를 위해 고군분투 중이며, 이러한 선폭 미세화 경쟁의 한가운데 ASML이 자리잡고 있습니다. ASML은 EUV 공정을 이용해...
    2023-07-26 | 15,000원 | 6p | ASML CSE CS 자소서 CS 엔지니어   ASML - CSE 합격 자소서
 
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