[CuCO₃·Cu(OH)₂]이나 염기성 황산동[CuSO₄·Cu(OH)₂]등이 형성된다. 이 부식 생성물은 어느 정도 부식속도를 감소시키는 보호 피막의 역할을 하며, 외관도 좋아 인위적으로 표면에 형성시킬 때 도 있다. 또한 동은 담수 및 해수에서도 내식성이 우수하므로 배관, 탱크, 열교환기 등에 널리 사용된다.
실험 목적
재료를 제조하여 보고 관찰 함 으로써 전반적인 재료 제작 과정과 XRD, SEM 을 이용한 관찰 방법을 이해한다. 또한 실험 변수 및 절차, 과정에 대한 이론을 알고 이를 토대로 측정값을 분석하여 결과를 도출해낸다.
이번 실험에서 우리 6조는 Cu와 Sn의 9:1 합금을 제조하고 분석하는 실험을
재료는 표1-1과 같이 어드밴스(Advance) 또는 콘스탄탄(Constantan)의 성분을 사용하는데, 주위 온도 변화에 대한 둔감성, 제작성 및 가격 등을 고려하여 선정되었다.
재료
성분
(%)
저항온도계수
(。C)
게이지상수
어드밴스
Cu 54
Ni 44
Mn 2
2μst/˚C
2.0~2.3
콘스탄탄
Cu 60
Ni 40
2μst/˚C
1.7~2.1
<표 1>
1. 실험 배경
공장, 화력 발전소의 매연 속에 함유된 황산화물은 대기 오염의 원인이 되므로 환경오염의 방지와 황 자원의 유효한 이용이란 관점에서 매연으로부터의 탈황은 세계적으로 중요한 과제가 되어 각국에서 많은 방식으로 연구되어 왔다. 이렇게 개발된 탈황설비(FGD)는 대부분 철로 구성된
역할을 차지하게 되었다. 현재는 Ge oxide의 불안정한 상태 때문에 Ge보다는 Si 사용한 MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)이 반도체산업의 중심에 서있다. 이러한 MOSFET의 바탕이 되는 MOS를 이용한 capacitor 즉 MOS capacitor는 유전체로써 oxide를 사용하였기 때문에 붙여진 이름이며 이번 실험에서 제작