1. 실험목적
SOL-GEL법을 이용하여 구형의 SiO2와 TiO2 nano powder를 합성한다.
2. Sol-Gel법의 분류 및 공정
Sol-gel법이란 “졸겔 세라믹스”를 제조하는 방법을 뜻한다. 즉, 졸→겔→세라믹스의 과정을 거치는 공벙을 말한다. 여기서 졸(sol)이란 일반적으로 1~1000nm정도의 입자들(콜로이드)로 이루어져
제조해야 하기 때문에 적절한 에칭 특성을 가져야 하는데 ITO가 다른 어떤 재료 보다 에칭 특성을 만족시킨다. ITO는 태양전지, 액정 셀, 가스 센서 등 이미 많은 분야에 사용되고 있다. 특히 LCD등의 평판 디스플레이의 화소 전극 및 공통 전극으로서, 디스플레이 내에 전극으로 사용되어 액정의 극성 성
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
무게를 뺀 측정값이 순 생성물의 무게값이며 이 값은 7.452g이었다. 수율을 구해보니 92.5%가 나왔다. 결정적으로 이 생성물의 결정은 무색의 결정이었으며, 잘게 깨진 유리 조각 같은 결정 모양이었다.
1.Introduction
1.1 실험목적
Sol-Gel법을 이용하여 가지형의 SiO2를 제조한다.
1.2 졸(Sol)
수 있다. 이러한 졸겔법에 관한 연구의 붐을 일으키게한 계기는 1947년경 Yoldas와 Yamane가 gel 모노리스를 제조하면서 부터이다. 그 후로 폭발적인 연구가 진행되어 보통 그렇듯이 기술이 졸겔 과학을 앞서 갔다.
본 실험의 목적은 sol-gel법을 이용하여 구형의 SIO₂와 TIO₂nano powder를 합성하는데 있다.