1.1. 화염 분무 열분해법을 이용하여 제조
1.1.1. 화염분무열분해법의 이용목적
나노사이즈 입자는 고상 분쇄와 같은 전통적인 방법으로는 제조하기 힘들어 액상법, 기상법 등의 방법이 많이 이용되고 있다. 액상법으로는 마이셀을 이용하여 반도체 나노입자들이 제조된 바 있고, 기상법으로도 나
Sputtering
높은 에너지를 가진 입자들이 target에 충돌하여 target 원자들에게 에너지를 전달해줌으로써 target원자들이 방출되는 현상이다.
* target (음극, 캐소드) : 모든 종류의 스퍼터링에서 박막이 만들어지는 덩어리
In this paper discuss luminescence properties for multilayer structures of ZnO nanocrystals embedded in
1)정의 및 특징
“이온화한 기체”를 말한다. 우리는 이러한 상태를 고체, 액체 ,기체도 아닌 “물질의 제 4상태”라고 말하기도 한다. 플라즈마는 우리가 생각하는 고체보다고 높은 밀도로 압축할 수 있고 기체 상태와 같이 낮은 압력에서도 존재한다.
기체 입자에 에너지가 가해지면 (일반적으로 가
Ⅰ. 서 론
1. 실험 목적
현재 magnetron sputter는 반도체, LCD 등을 포함하는 microelectronics 산업에서 박막 형성을 위한 주요 장비로 널리 쓰이고 있으며, 소자의 고집적화 및 대형화 추세에 따라 그 이용가치는 더욱 증대되고 있다. 본 연구에서는 TFT-LCD용 color filter제조시 ITO 박막 형성을 위해 사용하는 m
The GZO, MZO thin films were prepared on ZnO pre-sputtered glass substrate using RF Sputtering Technique. Morphological, Structural and Electrical properties of deposited films were investigated in comparison with pure ZnO Thin film by scanning electronic microscopy (SEM), Atomic force microscopy (AFM), X-ray diffraction (XRD), PL spectra and other electrical analytic method. SEM images showed al