1)정의 및 특징
“이온화한 기체”를 말한다. 우리는 이러한 상태를 고체, 액체 ,기체도 아닌 “물질의 제 4상태”라고 말하기도 한다. 플라즈마는 우리가 생각하는 고체보다고 높은 밀도로 압축할 수 있고 기체 상태와 같이 낮은 압력에서도 존재한다.
기체 입자에 에너지가 가해지면 (일반적으로 가
플라즈마 내의 전기장의 침투로 인한 전자의 진동
-> 이 자기장 에 의해 전자가 에너지를 얻음
전극은 방전에 의해 발생한 플라즈마와 접촉할 필요가 없음
-> 깨끗한 플라즈마와 사용 가스의 선택에서 자유로움
2-2. ICP
1) ICP 정의
아르곤(Ar)을 플라즈마 가스로 이용하여 고주파
2-2. ICP
1) ICP 정의
아르곤(Ar)을 플라즈마 가스로 이용하여 고주파 발생기로부터 발생된 주파수(2.45GHz) 영역에서 유도코일에 의해 발생된 플라즈마 발생소스에는 평판형(planar)(와선형), 나선형(helical)(실린더형)
이 있다.
2) ICP의 원리
Coil에 고주파 가하면 자기장 발생
챔버 주위로 원형의
서론 (플라즈마란?)
1. 플라즈마의 정의
플라즈마는 고체, 액체, 기체와 함께 물질의 4대 기본 상태 중 하나입니다. 이온, 전자 및 중성 원자 또는 분자를 포함하는 하전 입자 집합으로 구성된 이온화된 가스입니다. 플라즈마는 별, 번개, 오로라의 형태로 우주에서 자연적으로 발견될 수 있지만 플라즈
1.MEMS 및 ICS에 사용되는 식각공정을 분류하고 이에 대하여 장단점과 특성을 아는바 대로 기술하시오
MEMS 식각공정은 건식식각공정이 대표적이다.
건식식각기술은 용액 속에서 식각을 하지 않고 기체상태에서 용액 없이 식각을 진행 하는 방법으로 가스 식각, 스퍼터링효과 식각, RIE 식각으로 분류