4. Equipment
4.1 RCA cleaning
RCA cleaning is a series of rinsing procedure prior to experiment with Si wafer. The purpose of the RCA clean is to remove organic contaminants (such as dust particles, grease or silica gel) from the wafer surface. There are three steps to be performed. The first step is to remove organic contaminant from surface of wafer. Second step is to remove any oxide layer
1. Pump에서의 Cavitation (공동현상) 에 대하여 기술하고 이로 생길 수 있는 문제점과 그 방지책에 대해 논하시오
- Cavitation이란
유체가 넓은 유로에서 좁을 곳으로 고속 유입하거나 벽면의 요철, 만곡부 등으로 흐름이 직선적이지 못할 때 유체는 저압이 되고 포화증기압보다 낮아지면 기화되어 기포가
디젤유 탱크(Diesel Oil TANK : DOT) 소요용적
- 디젤유는 항해시 발전기 엔진(Generator Engine) 구동과 출입항 시 주기관 구동에 필요한 디젤유를 포함하여 그 소요 용적을 계산한다.
○ 주기관마력, 발전기의 용량을 알 수 없는 초기단계에서는 다음
과 같이 개략적으로 추정한다.
있던
액정이 TFT GLS의 PXL과 CF GLS의
ITO 사이에 형성된 전계에 따라 특정
배열을 갖으면서, BLU에서 들어오는
빛만큼을 화면으로 전달
1-1) TFT 공정 Flow - 4Mask 기준
TFT 공정 Flow는 4Mask 공정에 따라 이뤄지며, Photo, Wet-Etch, Strip 공정에서 세정목적으로 IPA 사용됨