현미경은 기본적으로 bright-field system의 연장선상에 있는 것이다. 다만 두 가지 주요한 광학적 변화가 bright-field microscope를 위상차 현미경으로 전환시킨다. 그 첫째로, 위상차현미경의 콘덴서에는 고리 모양의 광학적 투명영역(translu -cent area)과 불투명판(opaqus plate)으로 구성된 phase annulus가 있다. phase annul
현미경이나 망원경을 사용하며, 청각의 한계를 극복하기 위해 청진기, 확성기, 소음계, 음량계, 음파 측정기 등을 사용하는 것이 그 예이다.
한편, 관찰은 정성적인 관찰과 정량적인 관찰, 단기간의 관찰과 장기간의 관찰 등으로 나누어 볼 수 있다. 전조작기의 저학년 아동은 인지 발달면에서 볼 때 정
1. etching이란 무엇인가?
Etching의 기본 목적은 광학적으로 Grain크기, 상 등의 미세조직을 관찰하기 위한 과정이다. etching은 화학조성 응력 결정구조 등에 따라 방법이 다른데 가장 일반적인 방법은 화학부식 방법이며 목적에 따라 용융염방법, 전해부식, 열 및 plasma 부식 방법 등이 쓰인다. 본 실험에서
광학현미경(optical microscope), 주사전자현미경(scanning electron microscope), 투과전자현미경(transmission electron microscope) 등을 사용한다. 금속 시편의 경우 결정립, 입계, 기공, 이차상 등이 수십에서 수백 ㎛으로 비교적 크므로 반사현미경으로 관찰이 가능하다.
(1) 광학현미경
- 원리 : 가장 일반적으로 사용
높은 에너지의 전자빔을 이용.
전자가 시편과 충돌할 때 발생하는 이차전자, 반사전자, X-선 등을 검출하여 확대상을 촬영하는 장치.
종 류
1. SEM(주사전자현미경)
2. TEM(투과전자현미경)
진공 중에 놓여진 시료표면에 미세한 전자선으로 x-y의 이차원방향으로 주사하여 시료표면에서 발생하는 이