process
Fast deposition speed
Cheap process device
1. Partially different thickness
2. Difficult to control the element ratio
3. Hard to deposition the complex material layer
4. Low film quality
3.Material to be evaporated by e-beam
- E-beam dashes against
material
- E-beam transport energy
to the material
- Then evaporation process
is start
- 가장 보편화된 나노기술현재 인간이 가지고 있는 보편화된 기술 중 가장 미세한 구조물을 만들어내는 방법이 있다면 그것은 포토리소그래피일 것이다.포토리소그래피는 실제 전자집적회로> 제작에 사용되는 기술로써 그 원리는 다음과 같다.크롬층과 유리기판의 맨 위에 놓인 감광고분자 막 위에 레
박막은 In2O3에 Sn을 10% 정도 포함한 n-type 반도체 재료로서 다른 투명 박막에 비하여 Sn의 첨가로 인한 매우 낮은 전기저항과 안정성 때문에 사용되어 지고 있다. 비저항이 1 × 10-3Ώ/cm이하, 면 저항이 103Ώ/sq 이하로 전기전도성이 우수하다. 그리고 ITO가 도포된 유리기판상의 각 화소를 포토리소그래
Thin-Film Transistor)로 제어함으로써 화상을 표시하는 방법으로 TFT-LCD에서 TFT를 제외한 모든 부품을 제거하고 대신 얇은 유기 재료층을 TFT 위에 형성시킨 것과 유사한 개념이다. 이는 각 화소마다 TFT가 붙어 있어 소비전력이 작다고 해상도 등의 화질이 우수하다는 장점이 있다.
③ PM-OLED와 AM-OLED의 특성
1.2 기술 동향
유기박막 태양전지를 크게 분류하면 광활성층의 재료의 종류에 따라 단분자 구조와 고분자 구조로 분류할 수 있는데, 단분자 구조가 증착법을 통하여 광활성층을 도입하는 것에 반하여 고분자 구조는 스핀코팅, 닥터블레이드, 잉크젯 등의 다양한 용액 공정을 통하여 광활성층을 도입하