가능하다. 일반적으로 MEMS(Micro Electro Mechanical System) 기술로 일컬으며, MEMS 부품이란 수십에서 수백 마이크론 크기의 아주 작은 기계적인 구조물을 마이크론 단위의 정밀도로 가공하고 여기에 전자회로를 결합 또는 집적화시켜 원하는 기능을 수행할 수 있도록 만든 초소형 시스템을 말한다. (그림 2)에서
그림 36]).
[그림 36] 카본나노혼(CNH)의 투과전자 현미경사진과 원자구조모델
각각의 나노 혼을 1차입자라 한다면, 나노혼 집합체는 2차입자다. 나노 혼의 특징은 나노 메터 사이즈의 초미립자가 균질의 2차입자 구조를 자연히 만들고 있다는 것이다. 이 일은, 나노혼의 표면적을 유용하게 활용하는
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
자기 방전이 낮고 사용 중 안정성이 매우 높으며, 4) 기존의 벌크형에 비하여 계면 간의 기계 및 화학적 결합이 우수하여 전지 효율이 매우 높으며, 5) 박막 공정을 응용할 수 있으므로 대량 생산에 매우 유리하다.
표 1에 전력을 필요로 하는 소형의 전자, 전기 소자에 응용되기 위해 요구되는 박막 전지
이용한 공정을 그대로 도입할 수 있기 때문에 TFT 소자의 특성이 양호 하면서도 안정되어 있다.
- 결정성이 양호한 poly-si 제작 가능
- 계면 특성이 좋으면서 절연 특성이 안정한 Gate Oxide 제작 가능
- 1000℃ 고온 견디기 위해 비싼 Quartz기판 사용해야 하는 단점
- 고온폴리 실리콘은 거쳐야 할