기술이라고 할 수 있습니다. 접촉식 프린트를 구성하는 주요 기술로는 마스터, 엘라스토머, 스템프, 잉크, 프린팅 장비 등이 있습니다. 공정 순서는 그림 6a 와 같이 , 규소 와이퍼 위에 전자빔이나 기타 나노패턴 구현이 가능한 리소그래피로 마스터 패턴을 제작한 후 , 프리폴리머를 캐스팅합니다. 화학
기술의 중심이며, 반도체 공장에서도 가장 많은 금액의 투자를 필요로 하는 장치이다. 패턴 형성 후에는 반드시 에칭 공정이 수반되며 현성된 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 처리할 수 있다.
1.2.Phothlithography 과정
2. Optical-lithography의 한계
광 리소그라피(Optical lithography)는 지난 20세기 말경
기술이 대두될 것으로 예상된다. 이러한 선 폭 미세화와 웨이퍼 대형화는 현재 사용되고 있는 광 투사 리소그래피 관련 기술의 가격을 상승시키는 중요한 추세로써 미래 기술 발전에서 가장 먼저 해결해야 할 문제로 지적되고 있다. 또한 최근 급 부상하고 있는 나노기술과 바이오 기술 등은 새로운 형
화학적 특성이 중요하다. 따라서 기존의 MEMS/ NEMS 제작기술을 그대로 나노바이오공학분야에 적용하기에는 어려운 면이 존재 한다. 또한 대부분의 바이오응용 분야가 저가의 일회용 제품과 위생을 중시하는 의료용이므로 값비싼 실리콘을 재질로 사용하는 미세가공기술은 그 응용분야가 제한적이 된다.
- 가장 보편화된 나노기술현재 인간이 가지고 있는 보편화된 기술 중 가장 미세한 구조물을 만들어내는 방법이 있다면 그것은 포토리소그래피일 것이다.포토리소그래피는 실제 전자집적회로> 제작에 사용되는 기술로써 그 원리는 다음과 같다.크롬층과 유리기판의 맨 위에 놓인 감광고분자 막 위에 레