공정으로 나누어진다. 또한 NIL 기술은 그 방법에 따라 Thermal- 또는 UV-NIL 두 가지로 분류할 수 있다. 2006년 4월 전자공학회지 제33권 제4호, 연세대학교, 강신일
2. Thermal-NIL(NanoImprint Lithography)
Thermal-NIL 기술은 고온 고압의 환경에서 열에 변형이 되는 폴리머 레진에 나노 크기의 형상이 새겨진
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
, 입자 크기, 입자 모양 및 온도에 따라 기존 자기기록 미디어의 저장 밀도의 한계를 넘어 새로운 데이터 저장용 소자로의 적용이 가능할 것으로 판단된다. 또한, 이미 언급한 용도 이외에 최근에는 특수 물질을 분리하기 위하여 분자 날인 고분자 입자(molecular imprinted polymer microampere) 제조, 이온 응답
1. 개요 : 개요와 목적
최근의 다양한 스마트 기기의 발전과 더불어 화면표시 기술, 즉 디스플레이 테크놀러지가 각광 받고 있다. 이는 디스플레이 기술이 단순히 고객에게 보여주는 시각적인 부분이 뿐 아니라, 기기 자체의 성능(화질, 응답속도, 배터리 소모량 등)과 제품 단가(생산 공정단가 등)를