문제 제기
- 반도체의 집적도 증가에 따라 미세 오염물 제거 문제
- 기존 RCA법의 오염물 다량 배출 (H2O2,HCL,DI water)
및 고가 운영비
- 지표면 오존의 심각성(오존주의보)
wafer 세정에서 RCA 세정법을 대체 할 친환경 & 고기능 세
정제 및 공정 개발 (고체산 + 오존수 2단계 공정)
반도체 세
산소분자가 태양으로부터 방출되는 강력한 자외선을 받아 두 개의 산소원자로 분해되면서 발생된 산소원자가 다시 산소분자와 결합하여 생성된다.
(1) 오존층의 중요성
지표면 오존은 인간의 건강에 해로운 물질이다. 그러나 성층권내에 존재하는 오존은 태양으로부터 방출되는 자외선을 흡수하므
수 있는데, 이러한 형태의 피해는 대기오염 정도가 비교적 낮은 데서 오랫동안 노출되어 발생되는 만성적 피해라고 할 수 있다.
과거에는 대기오염물질이 발생하더라도 대부분 미량이었으며, 대기의 자정작용(기류와 같은)에 의해 별다른 피해없이 소멸되고 있었다.(평형의 유지) 산업혁명 이후
1. 과거에서 현제까지 과학의 발전정도
일단 과학에 대해 정의를 내리자면 과학은 영어와 프랑스어 'science'는 모두 어떤 사물을 '안다'는 라틴어 'scire'에서 연유된 말로, 넓은 의미로는 학(學) 또는 학문(學問)과 같은 뜻이나, 독일어의 'Wissenschaft'는 학문(Wissen)과 명백히 구별되어 과학을 의미하며, 철