Introduction
For maximum effectiveness and reliability, it is absolutely essential that all weapon systems function perfectly at any time, any place and any electromagnetic environment. Should the performance of any systems become degraded by electromagnetic interference (EMI) – by external or internal sources, such an occurrence can result in a disaster. To prevent degradation at any elec
4. Equipment
4.1 RCA cleaning
RCA cleaning is a series of rinsing procedure prior to experiment with Si wafer. The purpose of the RCA clean is to remove organic contaminants (such as dust particles, grease or silica gel) from the wafer surface. There are three steps to be performed. The first step is to remove organic contaminant from surface of wafer. Second step is to remove any oxide layer
The Ugly Side of CRM: Why CRM Matters
- More now than Ever Before
Now, companies have no choice as the power of the customer grows exponentially as the Internet grows.
Figure 11.3
In every case, you have become an integral part of the action as a member of the aggregated, interactive, self-organizing, auto-entertaining audience.
You constructed open-source software and
※전자파(electromagnetic wave,電磁波)
전자파의 원래 명칭은 전기자기파(電氣磁氣波)로서 이것을 줄여서 전자파라고 부른다.
전기 및 자기의 흐름에서 발생하는 일종의 전자기 에너지이다.
전기장과 자기장이 반복하면서 파도처럼 퍼져나가기 때문에 전자파로 부른다.
전자장의 진동이 파동의 형태
투과전자현미경은 주로 시료의 내부구조나 단면을 관찰하는데 쓰이고 있다. 원리는 광학현미경과 비슷하다. 전자현미경에서의 광원은 높은 진공 상태(1x10-4 이상)에서 고속으로 가속되는 전자선으로 이 전자선이 표본을 투과하여 형광판이나 사진필름에 초점을 맞추어 투사된다. 이 전자의 파장은 가