2. 이론
Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요한데, 아래 그림에서 보는 것과 같이 Clean room 에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야 한다.
◦ Cleaning & Wet-Station 의 중요성
모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인
● Definition of plasmaPlasma is one of the four fundamental states of matter, along with solid, liquid, and gas. It is an ionized gas consisting of a collection of charged particles, including ions, electrons, and neutral atoms or molecules. Plasma can be found naturally in the universe in the form of stars, lightning, and auroras, but it can also be artificially created and controlled for
Introduction (What is plasma?)
1. Definition of plasmaPlasma is one of the four fundamental states of matter, along with solid, liquid, and gas. It is an ionized gas consisting of a collection of charged particles, including ions, electrons, and neutral atoms or molecules. Plasma can be found naturally in the universe in the form of stars, lightning, and auroras, but it can also be artif
Lithography
Si Wafer coated with PR
Spin coating
PR is coated evenly by turning round rapidly.
Exposure
Align the Mask exactly and emit UV.(fixed 10sec)
Observation
See the completed sample through SEM
Development
∙ Dip the sample in the alkaline solution.
→(process parameter : 10sec 60sec 180sec)
∙ Due to differences in solubility of the exposed portion to be dissolv
X-ray photoelectron Spectroscopy는 광전자분광법(XPS)중 광원으로서 X선을 이용하는 방법으로 ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)라고도 한다. X선이 물질에 입사하여 흡수되면 그 에너지에 의해서 허용되는 내각전자로부터 가전자까지 여기되어 원자는 이온화한다. 이 여기된 전자는 고체 시료의 경우, 일부