vg;se, w¹¹¹⁸, w sn m) 를 분양 받아 Parental Generation을 만들었다.
② 25℃, 70%의 습도가 유지되는 환경에서 7시간단위로 수컷과 virgin의 암컷을 분리하여 새로운 Vial에 옮겨 적정 수가 될 때까지 반복하였다.
③ 수컷과 virgin의 암컷, 각각 5마리씩 새로운 Vial에 옮겨 교배를 시켰다. (총 5~6개 Vial)
Ⅰ. 개요
국제표준화기구(ISO : International Organization for Standardization)는 상품과 서비스의 국제 교류를 용이하게 하고 과학, 기술, 그리고 경제분야의 국제적 협력을 증진하기 위해 표준화와 이에 관계된 여러 가지 활동을 국제 규모로 발전, 촉진시키기 위한 목적으로 1942년 2월 정식으로 발족되었다. 주
4. Equipment
4.1 RCA cleaning
RCA cleaning is a series of rinsing procedure prior to experiment with Si wafer. The purpose of the RCA clean is to remove organic contaminants (such as dust particles, grease or silica gel) from the wafer surface. There are three steps to be performed. The first step is to remove organic contaminant from surface of wafer. Second step is to remove any oxide layer
○ PECVD
∙ What is PECVD?
⇒ Radio frequency(RF) is used to induce plasma in the deposition gas.
⇒ This results in a higher deposition rate at relatively low temperatures.
⇒ With the plasma enhanced CVD process is the deposition at temperature around 300℃ allows.
⇒ The temperature will be through encouragement of a plasma with high frequency electric fields triggered.
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