Ⅰ. 서론
CAD란 연필, 붓, 물감 등의 도구들을 이용해 지면에 여러 가지 형상을 표현한 그림이나 설계도면처럼 모니터라는 종이 위에 마우스나 키보드, 스캐너, 디지타이저 등의 입력 장치를 이용하여 어떤 형상을 표현하는 것이다. 그렇다면 붓과 종이로 그림을 그리고 설계를 하는 것과 컴퓨터를 이
2.3. Back contact
후면전극 물질로는 Sputtering법으로 증착된 Mo이 가장 광범위하게 사용된다. 이는 Mo이 가진 높은 전기전도도, CIGS와의 ohmic contact, Se 분위기 하에서의 고온 안정성 때문이다. Mo 박막은 전극으로서 비저항이 낮아야 하고 또한 열팽창계수의 차이로 인하여 박리현상이 일어나지 않도록
Substrate
비교적 저렴한 유리 기판으로 sodalime glass 사용
유리에서 확산된 Na이 태양전지의 효율을 증가시킴
Back contact
Sputtering법으로 증착된 Mo 사용
진공 상태에서 DC전압을 가하여 Radical이 존재하는 plasma 상태에서 기판에 증착
Sputtering 을 이용하여 Mo 위에 Cu-Ga/In으로 구성된 precursor
single crystal bulk
3.1 Design
Molecular formula
CuSO₄5H₂O
Melting point
16136℃
Specific gravity
2.284g/ml
Solubility
52g/100gH₂O (25℃)
Molecular weight
249.69
PH
2.480 (25℃)
system of crystallization
orthorhombic system
Table. 2. CuSO₄5H₂O
Molecular formula
KH₂PO₄
Melting point
96℃
Specific gravity
2
1) Bitumen의 Upgrade 과정에서 나오는 heavy residue (asphaltenens)나 Delayed coker에서 부산물로 나오는 coke를 가스화 (gasfication)하여 H2와 CO로 구성되는 Syngas를 제조하며,
2) Syngas 중의 H2를 분리하여 Upgrading에 공급하는 한편,
3) Syngas를 스팀을 제조의 열원으로 사용하거나 발전에 사용하는 등의 기술을 적용함으