항공기 조종사용 디스플레이의 TFT 내에 활성 층으로 활용될 ZnO를 분석
1. 서론
1.1 설계 주제
항공기 조종사용 디스플레이의 TFT 내에 활성 층으로 활용될 ZnO를 분석한다.
1.2 설계목표
현재 항공기 조종사용 디스플레이로 사용되고 있는 Head-Up Display(HUD) 시스템의 대체품으로 ZnO가 활성 층으
디스플레이가 필수적으로 장착돼 있어 유비쿼터스 사회를 말함에 있어 디스플레이 산업 역시 빼놓을 수 없는 부분이다.
1.1.1. 유비쿼터스 사회와 디스플레이
현재 우리가 사용하고 있는 정보기기 중에서 유비쿼터스 사회에 꼭 있어야 할 기기로 가장 먼저 휴대전화를 들 수 있으며 그 외에도 PC,
디스플레이를 차례로 점령하고 있다. LCD 산업의 태동기인 90년대 초만 하더라도 TFT(박막 트랜지스터) TFT (Thin FilmTransistor): 유리 기판 등의 절연 물체 위에 화학 증착법(CVD)으로 트랜지스터를 형성하는 것. 액정표시장치(능동 매트릭스형)의 화소 표시에 사용된다. 박막에는 비결정성 실리콘(amorphous silicon
transistor)라 한다.
충분히 큰 게이트 전압이 인가되어 있어 표면이 완전히 n형으로 반전되어 있는 경우 드레인 전류() - 드레인 전압()의 관계에 대해서 설명한다.
낮은 에 대해서 소스 ․ 드레인 간의 채널 영역은 저항체와 같이 - 특성은 직선 관계를 나타낸다. 가 증가하면 게이트와 n형 반전층 사
1. 실험목적
MOS Capacitor를 직접 제작하며 공정을 이해하고, Dielectric 재료와 열처리 시간 변수에 따른 MOS Capacitor의 특성 및 구동원리를 이해한다.
2. 실험배경
인류는 집적회로(Integrated circuit; IC)의 개발로 많은 수의 Transistor, Capacitor등이 한 개의 반도체 Chip안에 집적화할 수 있게 되었다. 이 점을
재료(ingot feeder)에 충돌한다. 열전자의 높은 에너지 때문에 ingot은 증발하게 되고 이것이 다시 기판위에 증착된다. 이 과정은 모두 진공펌프에 의해 UHV(Ultra High Vacuum)에서 이루어진다. ingot의 양에 증착되는 film의 양을 control 할 수 있으며 열전자를 사용하기 때문에 융점이 높은 물질도 쉽게 증착 할 수 있
재료(ingot feeder)에 충돌한다. 열전자의 높은 에너지 때문에 ingot은 증발하게 되고 이것이 다시 기판위에 증착된다. 이 과정은 모두 진공펌프에 의해 UHV(Ultra High Vacuum)에서 이루어진다. ingot의 양에 증착되는 film의 양을 control 할 수 있으며 열전자를 사용하기 때문에 융점이 높은 물질도 쉽게 증착 할 수 있
실험 목적
전도성 고분자를 이용하여 기존의 ITO의 단점을 보완한 고투명성과 고유연성이 확보되는 박막전극의 제조
PEDOT:PSS
장점
높은 투과도
높은 열 안정성
수용액 상태로 존재
증착의 용이함
낮은 표면 거칠기
저비용
단점
낮은 전기 전도도
(DMSO, EG, PEG 등의 첨가를 통해 향상 가능)
Poly
재료로서 구하기도 용이하다. 뿐만 아니라 빛을 거의 100% 투과시키기 때문에 OLED소자가 발광할 때 그 효율을 쉽게 유지할 수 있다. 그러나 높은 Tg 때문에 Flexible 디스플레이를 구현하기에는 어려우므로 향후 유연한 고분자물질인 PET, PI와 같은 플라스틱 기판이 많이 연구될 것으로 기대된다. 반면 플라
1 서론
OLED는 현재 차세대 디스플레이 소자로 각광을 받고 있다. OLED의 경우 공정이 쉽고 공정 가격이 싸기 때문에 가격적이 면에서도 유리하다. 또한 특성이 좋고 organic물질의 경우 flexible한 장점을 가지고 있어서 나중에 flexible display로서의 가능성을 가질 수 있다. 그래서 OLED의 기술 개발이 필요하다