과제
Explain the mechanism of TEM and SEM and compare the two microscopic techniques Refer to Example 7.2 on page 258
Example 7.2 - Estimating the de Broglie wavelength Estimate the wavelength of electrons that have been accelerated from rest through a potential difference of 40kV
Mechanism of TEM
가속 전자를 광원으로 사용
광원으로 쓰이는 전자는 음전하를 띠고
전자현미경의 개발배경
-광학현미경의 분해능인 빛의 파장의 한계인식
-전자의 발견 및 전자파동설의 대두
(전자빔의 경우 De Broglie equation에 따라 파동성을 갖는다)
-전자의 자계에 의한 렌즈작용의 이론화
-TEM의 개발(1931)
-SEM의 개발(1938)
배경이론
- 독일의 물리학자 압베 (E. Abbe)가
SEM?
Scanning electron microscope
To analysis surface of specimen
Qualitative analysis at certain point
Operation principal of SEM
Emission electron from filament
Accelerate electron by electric field
Focusing electron by lens → mono-chromatic electron beam
Generate secondary electron and etc.
Detection of electron
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
1) 원리 및 mechanism
분체의 물성을 강하게 지배하는 것은 입자의 크기 및 분포로서 이상적인 분쇄기는 분쇄용량이 크고, 분쇄생성물의 단위량당 동력소모가 작아야 하며, 원하는 단일입자 또는 입도분포를 가지는 생성물을 얻을 수 있어야 한다. 그 때문에 단립자의 파괴의 mechanism은 분쇄의 기본이다.