Lithography은 일반적으로 광에 의하여 마스크(Mask)
상에 기하학적 모형(Pattem)을 반도체 웨이퍼의 표면에
도포되어 있는 얇은 감광재료(Photoresist)에 옮겨 놓은
것이다
1. 감광제는 빛에 예민한 반응을 보이는 화합물로서 현재 반도체
산업에 쓰이는 감광제는 3가지 요소 용제, 다중체, 감응제로 구성
되
리소그래피의 한계포토리소그래피는 이제 그 정밀도에서 한계에 다다르고 있다. 포토리소그래피를 가지고 나노 크기의 회로를 만드는 것은 불가능한데 그 이유는 무엇일까?그 첫 번째 이유는 공정상 사용하는 빛의 한계이다.현재 전자 회로 생산 공정에서 사용하는 자외선의 가장 짧은 파장이 약 250나
공정은 모든 프로세스 기술의 중심이며, 반도체 공장에서도 가장 많은 금액의 투자를 필요로 하는 장치이다. 패턴 형성 후에는 반드시 에칭 공정이 수반되며 현성된 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 처리할 수 있다.
1.2.Phothlithography 과정
(1)clean wafers
세정은 리소그래피를 처음으로 하는 각 공
Ⅰ. 광양자설(광자설)
아인슈타인은 이 가설을 당시에 수수께끼로 여겨졌던 광전효과에 적용하여 성공을 거두었다. 광전효과는 전자기파를 발견한 헤르츠에 의해 1887년 발견되었는데, 어떤 금속표면에 보랏빛 광선이나 자외선을 쪼이면 전자가 튀어나오는 현상을 말한다. 여러 가지 실험으로, 다음
1. PDP (Plasma Display Panel)의 개요
(1) 개요
플라즈마(Plasma)는 이온(양전하)과 전자(음전하)가 같은 양으로 혼합하여, 자유입자에 가까운 행세를 하면서 전기적으로 중성을 유지하고 있는 현상을 나타냅니다. 쉽게 말해서 플라즈마란 기체상태의 물질에 열을 가하여 이온과 전자로 분리된 전기를 띤 입자