입자 발생을 꼽을 수 있다. 이러한 원인으로 인하여 NH3,탄화수소 등의 입자가 발생하게 되는데 이로인해 공정입자가 발생하게 된다. 또한 clean room을 구성하는 콘크리트나 내부에 존재하는 기구들의 재질에서 나오는 NH3등의 입자들이 대기중으로 나오게되면서 오염을 일으키는 원인이 되기도한다.
입
광학적으로는 결정체와 같은 이방성을 나타내는 특이상태의 것으로 일정 온도범위에서 액정이 되는 서모트로픽 액정(Thermotropic Liquid Crystal)이라 불리는 유기 화합물이다.
그러나 제품으로 응용은 발명되고 얼마나 지나지 않은 1934년 영국인 쇤베르크가 CRT(Cathode Ray Tube)를 이용하여 진공관 TV를 발명한
크기순 = 연유리 < 소다 석회유리 < 칼리유리)
소성변형 - 탄성을 가진 물체는 힘을 가하면 형상이 바뀌었다가 힘을 제거하면 원래 상태로 돌아간다. 하지만 금속 등의 많은 고체재료는 탄성한계가 작아 강한 힘을 주면 돌아오지 않는 영구변형이 일어난다. 이렇게 힘을 주어 모양을 바꿀 수 있는 성질을
제목: 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정
문제제기: .기존 RCA법의 요염물 다량 배출(H202, DI water 및 HCl)
기존 RCA법에서 고가 운영비(과산화수소 처리공정, 높은 온도유지)
.반도체가 점점 작아지면서 미세한 오염물 제거의 필요성
지표면 오존의 심각성(오존주의보)
크기의 회로를 만드는 것은 불가능한데 그 이유는 무엇일까?그 첫 번째 이유는 공정상 사용하는 빛의 한계이다.현재 전자 회로 생산 공정에서 사용하는 자외선의 가장 짧은 파장이 약 250나노미터이다. 포토리소그래피에서 작은 회로두께를 만들기 위해서는 회로두께보다 작은 파장의 광선이 필요한데