1.공정입자의 발생원인과 그로인한 영향
우선 원인으로 공정과정중 작업자의 호흡과 땀등으로 통한 입자 발생을 꼽을 수 있다. 이러한 원인으로 인하여 NH3,탄화수소 등의 입자가 발생하게 되는데 이로인해 공정입자가 발생하게 된다. 또한 clean room을 구성하는 콘크리트나 내부에 존재하는 기구들의 재
※반도체 제조공정 중 기존의 lithograph 공정과 잉크젯 프린팅 공정의 차이와 잉크젯 프린팅 공정을 적용하였을 경우 얻어지는 장점
A. 반도체 제조공정 중 기존의 lithograph 공정
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는
디스플레이의 일종이다.
1990년대부터는 액정디스플레이가 실용화되면서 시장규모가 급격히 팽창하고 있다. 따라서 2000년대에는 컴퓨터 표시 소자에서 CRT와 평면 액정디스플레이가 거의 같은 수량이 사용될 것으로 기대되고 있다. LCD판매의 폭발적 성장은 무엇보다도 일반 CRT TV에 비해 고해상도를 가
광고를 통해서
휘어지는 디스플레이나 그것이 적용된 휴대폰 등은 봤지만 정확히 어떤 기술이 이용되
는지는 몰라서 그랬을 것이라 추측된다. 그래서 이번 기술 보고서를 통해 크게 그래핀
의 특성과 구조, 현재의 생산 방법과 연구단계, 미래의 활용 분야와 시장으로 나누어
살펴보기로 하겠다.
디스플레이 기술의 발전에 중요한 역할이 기대되는 가운데, 유기층에서의 전자주입 또는 누적을 효과적으로 제어하여 유기 발광 픽셀의 구경비, 밝기, 수명을 증가시킬 것이다. 또한 OLET는 발광 현상이 횡적인 채널 구조에서 발현되므로 직관적으로 유기 반도체에서 전하 캐리어 주입이나 전달 및 전계