(4) Double patterning
The double patterning is divided into four parts, leading with wafer requirements and then two sets of lithographic requirements (Generic Pitch Splitting - Double Patterning Requirements Driven by MPU metal Half-Pitch and Generic Spacer Patterning Requirements - Driven by Flash). The lithography requirements are different for each process; the requirements for pitch splitti
ML2 means the maskless lithography. It is necessary to refinement process. Described above, "double / mutiful patterning" in additional cost savings as an alternative to be appropriate. Nano devices with decreasing the size of the unilateral use light to produce a mask for the lithography process takes time and cost. Small production of nano scale patterning process is suitable, and the suitable
Piezoelectric crystal, e.g. Quartz and PLZT (Pb, La,
Zr, TiOx) are well known for their sensitivity to
pressure on their crystal surfaces. In addition,
the oscillating frequency of a piezoelectrc crystal
decreases on adsorption of a foreign substance
onto its surface.
The variation of oscillating frequency is
proportional to the mass of foreign
molecules deposited on the crystal surf
Advantage
① 낮은 성장률을 가지면서 높은 질의 epilayer을 생성
② 다양한 dopant 성분을 흡착이 가능하고, 복잡한 구조를
가진 다양한 layer를 생성
Disadvantage
① 고진공으로 인한 작동비용이 높음
② source material 교체로 인한 chamber 내부의 오염
③ As와 P이 포함되어 있는 alloy의 성장 제한
Ⅰ. 개요
오늘날 서구 학계(특히 사회과학 분야)에서는 질적방법이 점차 수용되고 있다. 이것은 사회의 복잡성이 하나의 관점으로 이해될 수 없음을 연구자들이 자각하게 되었다는 사실에 부분적으로 기인한다. 한국사회과학에서도 이러한 경향은 크게 눈에 띄는 것은 아니라고 하더라도, 양적방법