③ PVD(Physical Vapor Deposition)
PVD는 증착시키려는 물질이 기판에 증착될 때 기체 상태가 고체 상태로 바뀌는 물리적인 변화를 이용한 방법을 말한다. 다른 증착법과는 다르게 저온에서 간단히 박막을 증착할 수 있는데, 다음과 같이 여러 증착법이 있다.
스퍼터링(Sputtering), 전자빔 증착법 (E-beam evapora
4. 실험장비
① E-Beam Evaporator
PVD(Physical vapor deposition)의 한 방법으로 전자빔을 이용하여 박막을 형성하는 것이 E-Beam Evaporator이다. 그림5.는 E-beam장치의 구조도이다. 장치안의 필라멘트에 매우 높은 전압을 가하면 필라멘트에서 에너지를 가진 열전자들이 방출된다. 이 부분을 electron gun이라하고 여
process
Fast deposition speed
Cheap process device
1. Partially different thickness
2. Difficult to control theelement ratio
3. Hard to deposition the complex material layer
4. Low film quality
3.Material to beevaporated by e-beam
- E-beam dashes against
material
- E-beam transport energy
to the material
- Then evaporation process
is start
Ⅰ. 서 론
우리나라 사람들은 밀가루 음식을 대체로 즐겨먹고 있다. 밀가루는 국수, 라면, 제빵 등 여러 재료로 쓰이고 있어 갈수록 수요는 증가할 것으로 예상된다. 특히 현대인들은 밥보다 빵을 선호하여 갈수록 쌀소비가 줄어들고 빵을 많이 먹게 된다. 그에 따른 밀가루의 소비도 덩달아 늘어나고
1. 서론
? 지난 50년간 지구의 인구는 4배, 에너지 사용량은 16배, 어획량은 35배, 산업 생산량은 40배가 증가했으며, 이로 인한 기후 변화와 지구 환경 위협에 대응하는 것이 인류의 새로운 문제로 주어졌다.
? 동시에 온실가스, 오염물질, 쓰레기, 질병이 증가하였으며, 특히 인구 증가와 함께 산업 및