증착, 오염된 고체 표면의 컷팅, 깊이 방향과 조성변화를 조사하기 위한 이온에칭, 온도변화에 대한 메커니즘 규명을 위한 온도제어, 가스처리 등이 행하여 진다.
측정실 : 시료를 여기시키는 전원, 시료로 부터 방출되는 광전자 에너지를 분별하는 에너지 분석기, 전자 검출기 등으로 되어 있다.
제목: 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정
문제제기: .기존 RCA법의 요염물 다량 배출(H202, DI water 및 HCl)
기존 RCA법에서 고가 운영비(과산화수소 처리공정, 높은 온도유지)
.반도체가 점점 작아지면서 미세한 오염물 제거의 필요성
지표면 오존의 심각성(오존주의보)
장점도 있다.
그러나 기기의 가격이 비싸다는 단점이 있다.
X-ray Photoelectron Spectroscopy 의 응용분야로는 첨가제 분석, 화학 구조 규명은 물론 시료 표면 원소의 정성 및 정량, 결합 에너지 준위, 수직 분포 분석, 그리고 반도체에서 Gate oxide와 같이 두께가 얇은 oxide의 두께를 측정하는 데에 사용된다.
분광(스펙트럼)과 분자분광학
분자들은 분자의 전자구조 외에도 회전 및 진동운동에 따라 여러 가지 에너지준위를 가질 수 있다. 그리고 이러한 여러 가지 에너지 준위들은 양자화되어 있다.
放出분광법에서는 분자가 높은 에너지(Ef)의 들뜬상태로부터 낮은 에너지(Ei)의 바닥상태로 떨어지면서 다
UV-Vis 흡수 분광광도법
분석원리
- 결합전자(원자가전자)가 기저상태에서 여기상태로 전이하면서 흡수되는 빛의 파장과 세기를 이용하여 미지물질을 정성․정량 분석한다.
(UV/Vis 분광법에서 활용되는 흡수 파장 영역은 200~800nm)
1) 정성분석 : 특정 파장의 빛을 이용하여 원자나 분자의 조성을 정