웨이퍼 세척과 반도체 공정에 전반적으로 사용되는 중요한 화합물이 Di water이다. Di water는 이온, 입자, 박테리아 같은 오염물질을 제거한 매우 순수한 물이다. 이론적으로 순수한 물의 저항은 25℃에서 18.3 Mohm-cm이다. 일반적인 Di water 시스템은 0.25um보다 큰 입자가 없고, 밀리미터당 박테리아 수가 1.2보
1. Introduction
흔히들 21세기를 ‘빛의 시대’라 말한다. 과거 실리콘 반도체가 전자 정보의 혁명을 가능케 했다면 이제 제 3세대 반도체인 질화물 반도체가 21세기 빛의 혁명을 예고하고 있다. 발광다이오드(light emitting diode: LED), 즉 "빛을 내는 반도체"가 바로 그것이다. LED는 p형과 n형 반도체의 접합으로
2. SWOT 분석
무엇보다도 삼성이라는 브랜드 파워를 가지고 있는것과 회사자체내에 전자산업을 가지고 있는점이 강점이고, 약점은 반도체와 LCD, 휴대폰에 대한 의존도가 지나치게 높다는 점이다.
Strengths
-정부의 적극적 투자
-최첨단 기술과 모방력
-규모의 경제효과달성가능
-브랜드 파워
Weaknesses
제목: 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정
문제제기: .기존 RCA법의 요염물 다량 배출(H202, DI water 및 HCl)
기존 RCA법에서 고가 운영비(과산화수소 처리공정, 높은 온도유지)
.반도체가 점점 작아지면서 미세한 오염물 제거의 필요성
지표면 오존의 심각성(오존주의보)