(4) Double patterning
The double patterning is divided into four parts, leading with wafer requirements and then two sets of lithographic requirements (Generic Pitch Splitting - Double Patterning Requirements Driven by MPU metal Half-Pitch and Generic Spacer Patterning Requirements - Driven by Flash). The lithography requirements are different for each process; the requirements for pitch splitti
◈ Observation & Result
Ligased plasmid + 만든 CP Cell
Ligation + 상용 CP cell
Inserted plasmid + 상용 CP Cell
Plasmid only + 상용 CP cell
실험5 Subject Transformant 확인/ LB Broth에 (containing 100μg/ml of ampicillin) transformant를 multiplication
◈ Purpose
전날 만든 transformant가 제대로 배양되었는지 colony를 확인하고, ampicillin을 처리해
1-2. Characteristic polynomial의 발견.
eigenvalue를 구하는 방정식인 characteristic polynomial은 Cayley가 발견하였다. Cayley는 또한 ``2차 정사각행렬은 자신의 특성방정식을 만족한다''는 것을 증명했다. 그는 자신 이 3차 정사각행렬에 관한 연구결과도 확인했다고 주장했다. ``임의의 행렬이 자신의 특성방정식 을 만
1. Cloning의 정의
․ Clone ; identical하다.
ex) Cell clone은 identical한 cell의 집합
Bacterial clone은 같은 형질의 세균들 집합
Human clone은 복제인간
Gene clone은 동일한 유전자의 집합
위의 그림에서와 같이 한 cell에서 배양하여 가득 채운 cell들은 모두 identical하다는 전제하에 실험을 하게 된