소개글
[재료 공학] 반도체 제조 공정에 대한 자료입니다.
목차
설계진행과정
1. 반도체 소자를 제조하는 공정에서 issue가 되는 것들과
이를 해결하기 위해 어떠한 방법들이 현재 개발되고 있는가?
I. STI 공정
i. 개발현황
플라즈마공정에 의한 에스티아이 공정의 특성개선방법
II. 화학기상증착(CVD)공정
i. 개발현황
실리콘 산화막의 질소 패시베이션 효과
플라즈마를 이용한 식각 공정과 증착 공정
III. 웨이퍼공정
i. 개발현황
3백㎜(12인치)웨이퍼 공정 기술
2. 나의 아이디어
본문내용
1. STI공정
Trench는 0.25㎛ 이후의 반도체 공정에서 Isolation 목적으로 만들어진 공정이다.
Design Rule마다 조금의 차이는 있지만 4000Å정도의 깊이로 Silicon Wafer를 Etch해서
소자들끼리 격리시키는 것, 이 공정을 STI(Shallow Trench Isolation)이라고 한다.
CVD(화학증착)는 Pack cementation , Thermal CVD, 플라즈마 CVD로 크게 나눌 수 있다. CVD의 기본 원리는 증착하고자 하는 물질을 함유하는 반응가스를 반응조에 도입하여 가열된 기판 표면에서 열분해를 일으키도록 함으로써 원하는 물질을 증착하는 것이다.
2. 화학기상증착(CVD) 공정
CVD(화학증착)는 Pack cementation , Thermal CVD, 플라즈마 CVD로 크게 나눌 수 있다. CVD의 기본 원리는 증착하고자 하는 물질을 함유하는 반응가스를 반응조에 도입하여 가열된 기판 표면에서 열분해를 일으키도록 함으로써 원하는 물질을 증착하는 것이다.
3. 웨이퍼 공정
3백㎜(12인치)웨이퍼 공정 기술
현재 일반적으로 사용되고 있는 200㎜(8인치) 웨이퍼에 비하여 300㎜(12인치)웨이퍼의 최대 장점은 반도체소자의 제조원가 절감.
하지만 대체 제품인 300㎜ 웨이퍼가 신규라인 건설에 따른 비용부담이 과다하고 웨이퍼 자체의 신뢰성이 아직 검증되지 않은 상태이고 웨이퍼가 300㎜로 대구경화하면서 플라즈마 밀도나 공정 관련 요소들의 균일도가 나빠지는 문제점 제기.
. 나의 아이디어
원하는 부분만 laser를 사진식각공정 대신 사용