속도
0.5Å/S
1Å/S
실험전 boat+ALQ3
1.728
1.754g
실험후 boat+ALQ3
1.721
1.749g
증발된 ALQ3 분자량
-0.8078 x 10-8 mol
-0.6058 x 10-8 mol
[계산식] - 이상기체로 가정한다.
T = 298K
V = 10L
= 458.98 로 둔다.
증착 전,
증착 후,
W1 : 처음 시료의 무게 , W2 : 증착 후의 시료 무게
: 다른 표면에 증착하거나 vacuum pum
. Gate에 전압()을 가해주어도 페르미 에너지 준위()는 변하지 않고 일정하며, >0이면 금속의 는 내려가며 <0이면 금속의 는 올라간다. 따라서 반도체 쪽의 에너지 밴드는 전압에 따라 휘어지게 되며 oxide에서는 charge center가 없으므로 electric field가 일정하다. 그 결과 band가 일정한 기울기로 휘어지게 된다.
화학적이냐 물리적이냐에 따라 크게 두 카테고리로 나뉜다.
그림. 4 박막 공정의 종류
1) Chemical Deposition
유체(액체, 기체) precursor(씌우고자 하는 층이 될 잠재 물질)는 고체 표면에서 화학적 변화를 일으켜, 고체 층을 만든다. 유체가 고체 표면을 둘러싸기 때문에 방향에 관계없이 증착은 모
증착판을 고정한다.
2) 증착 과정
① 쿨러을 켠다.
② R.P.Leak 밸브 및 3way 벨브, Air Leak, Main 벨브가 잠겼는지 확인한다.
③ 메인 스위치를 켜고 로터리 펌프를 켠다.
④ Pirani gauge를 확인한 후 10-2Pa까지 압력이 떨어지면 Rough way 쪽으로 벨브를 연다.
⑤ Chamber내의 압력이 충분히 떨어진 후 Fore w
결과물이 사진을 만들 때 인화용 원판에 해당하는 마스크이다. 자외선을 마스크에 직사하면 빛은 크롬이 제거된 틈을 통과한다. 렌즈는 실리콘 웨이퍼 위의 포토레지스트에 집중시켜 작게 비추도록 한다. 이와 같은 과정을 거쳐 집적 회로가 만들어지는데, 현재 포토리소그래피는 미세구조를 만들 수