What is soft-lithography?
So, an alternative and non-photolithographic method that we call soft lithography was developed. Because this method uses a patterned elastomer(e.g. PDMS(Poly DiMethyl Siloxane)) as the stamp, mold, or mask to generate micro-patterns and microstructures, it was titled as 'soft' lithography. As compared with photo-lithography, soft lithography has many kinds of strength.
Lithography은 일반적으로 광에 의하여 마스크(Mask)
상에 기하학적 모형(Pattem)을 반도체 웨이퍼의 표면에
도포되어 있는 얇은 감광재료(Photoresist)에 옮겨 놓은
것이다
1. 감광제는 빛에 예민한 반응을 보이는 화합물로서 현재 반도체
산업에 쓰이는 감광제는 3가지 요소 용제, 다중체, 감응제로 구성
되
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
1.1 Soft lithography
Microstructure나 nanostructure을 만들기 위한 printing, molding의 과정을 포함하는 technique으로, 일반적으로 printing, molding, transfer의 3단계 과정을 거친다.
1.1.1 Printing
Master를 만드는 과정이다. Photolithography, e-beam, micro-machining, photoresist 등 다양한 방법을 통해 원하는 모양을 가지는 master를 제작할
Soft bake) - p9 참조
도 중요한 공정이다. 현상공정에서는 각 개별의 프로세스 유닛이 디바이스 메이커의 요구에 따라 통합화되어 스테퍼와 접속된다.
스테퍼에는 10:1의 축소에서 시작하여 5:1, 4:1등이 있고, 1:1의 스테퍼도 이용된다. 축소투영의 장점은 필요한 패턴 사이즈를 확대한 마스크가 이용된다