3.1 옷 건조기의 SWOT분석
Strength
근적외선을 통한 살균 효과
적은 소비 전력, 고효율
사이즈 변형용이
-공간에 따라 형태 변환 용이
의류변형 없는 빠른 건조
친환경
인체에 무해-코일
가격경쟁에서 우위를 점할 수 있다. Weakness
낮은 인지도
유통망 부족
디자인적 측면 미흡
경쟁사에 비
2. 원 리(Theory)
▷ 식품의 건조 방법
식품이나 화학물질 등의 용매인 물은 건조 조작을 통하여 제거된다. 건조는 일반적인 분류로 상압건조(열풍건조, 분무건조 등), 진공건조, 진공동결건조 등으로 나뉠 수 있는데, 진공동결건조는 다른 방식과 달리 증발이 아닌 승화를 통하여 물이 건조된다는 특징
1. Dry Etch; PR 등의 보호막으로 가려져 있지 않은 부위의 막질 제거
2. Ashing; PR 제거
3. Plasma Nitridation; 얇은 산화막 등 유전막의 특성 개선을 위한 표면 처리
4. Plasma Oxidation; Transistor의 특성 개선을 위한 표면 처리
5. 유전막 PE-CVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition); SiON 등의
유전막 증착
6. Barrier Meta
건조기종류와 건조조건을 잘 선택하여 품질저하를 최대한 줄여야 한다.
2. 공기의 성질
식품을 열풍으로 건조할 때 식품내부의 수분은 표면으로 이동한 다음 표면에서 증발되어 공기 중으로 이동한다. 열풍은 수분을 증발시키는데 필요한 증바잠열(latent heat of vaporization)을 공급해주는 동시에 증발
4. Equipment
4.1 RCA cleaning
RCA cleaning is a series of rinsing procedure prior to experiment with Si wafer. The purpose of the RCA clean is to remove organic contaminants (such as dust particles, grease or silica gel) from the wafer surface. There are three steps to be performed. The first step is to remove organic contaminant from surface of wafer. Second step is to remove any oxide layer