: 흡착제의 단위무게당 흡착량
: 흡착에너지에 관련되는 상수
(
: 흡착 엔트로피를 포함한 상수
: 흡착 에너지.
흡착량이 적은 경우 Langmuir의 흡착등온식은 인 선형 흡착등온식으로 변형되며, 흡착량이 많은 경우에 대해서는 인 포화등온식으로 변형된다. Langmuir의 흡착등온식은 두
※Genomics란?
게노믹스(genomics)란 어떤 생물체의 유전자(gene)와 염색체(ch romosome) 집합인 게놈(genome)정보를 다루는 분야다. 구체적으로는 게놈의 서열을 밝히고 이를 지도(map)로 만들어 분석, 응용하는 과정을 말한다. 90년대 이후 바이오산업은 정보기술의 발달에 힘입어 유전자와 단백질 및 그 기능 등
1.1.1. 운전조건
역류콘덴서가 부착된 반응기에서 조건은 입구 96℃, 출구 102℃, 압력 60∼80mmHg에서 과잉의 석회유를 사용한다. 생성 가스는 물 70%, EO 26%, 이염화에틸렌 3%, 기타의 부산물 1%이다. 이것을 냉각, 가스 분리 2단에서 증류시켜 이염화에틸렌을 분류한다. 탑상부에서 나오는 EO의 순도 98∼
이전 연구 결과에 따르면 이 polymorphism은 estradiol의 4-와2-hydroxylation의 달라진 효소활성도와 관련
432Val allele은 Leu432 allele과 비교했을때 더 큰 4-hydroxylase 활성을 지님
dihydrodiols,heterocyclic aryl amines, polycyclic aromatic hydrocarbons 같은 procarcinogens의 활성에서는 적은 활성도를 지님
CYP1B1 효소가 estrogen과 estrogen
문제의 설정
- 교토의정서에 따르면 우리나라는 의무감축국은 아니지만 다른 나라를 기준으로 온실가스 배출량을 평균 5%를 감축해야 한다. 따라서 기업에서도 1년에 5% 절감을 위해서 선택해야 하는 방안을 문제로 잡았다. 기업들마다 온실가스 배출량은 극명하게 차이가 나기에 'POSCO'를 전체적 모델
Solid Source
each cell is loaded with a charge material, usually a pure element like gallium or arsenic, which is solid at room temperature.
The gaseous atomic or molecular beam is generated by heating the charge in the effusion cell in the growth chamber.
The effective beam pressure or flow rate of the gas, called the beam flux, is varied by adjusting the effusion cell temperature.
A
(Up) Schematic diagram of apparatus used for RIE in semiconductor processing.
(Right) RIE system from Eidgenossische Technishe Hochschule Suiss Federal Institute of Technology
(http://www.ifm.ethz.ch/mems/eq_rie.htm
Wafer가 놓이는 전극에
RF전압을 인가하고, 공정압력을
낮게 유지하여 Plasma 중의 양이온이
Plasma sheath를 통해 가속되게
함으로써
1. Dry Etch; PR 등의 보호막으로 가려져 있지 않은 부위의 막질 제거
2. Ashing; PR 제거
3. Plasma Nitridation; 얇은 산화막 등 유전막의 특성 개선을 위한 표면 처리
4. Plasma Oxidation; Transistor의 특성 개선을 위한 표면 처리
5. 유전막 PE-CVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition); SiON 등의
유전막 증착
6. Barrier Meta