2.양성 PR과 음성 PR의 화학식, 구조식 작동원리에 대해 설명하라
1.Photolithography란?
Photolithography 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용하여, 얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 patter
pattern their behavior on the perceived expectation of others. In other words, as a marketer, we can put this fact into the advertisement.
4. Brand Extension Strategy
Brand extension or brand stretching is a marketing strategy in which a firm marketing a product with a well-developed image uses the same brand name in a different product category. Value For Money (VFM) means consumers wan
Polar Bears
Require pack ice to live
Might eventually go extinct in the wild
Sea turtles
Breed on the same islands astheir birth
Could go extinct on some islandsas beaches are flooded
Other species may go extinct as rainfall patterns change throughout the world
Fewer deaths from cold, more from heat
Decreased thermohaline circulation
Cooler temperatures in North Atlantic
CO2 fertiliza
한번의 실험으로 수천 개 gene의
expression pattern과 profiling이
가능한 기술
병의 구체적인 Subtype을 구분할 때
한번의 분석으로 더 많은 gene을 정확하게
구분할 수 있어, 유전병 진단에 활용
최근에는 사람의 Cancer연구에
많이 활용됨
실시간으로 PCR 진행을 관찰 할 수 있음
: 형광물질
patterns of all the film samples, whereas Fig. 2 exhibit the XRD patterns of the AZO-coated and MZO-coated ZnO nanowires sputtered respectively. The patterns exhibit four crystal phases, i.e., hexagonal ZnO (JCPDS 36-1451), hexagonal Zn (JCPDS 04-0831), cubic Au (JCPDS 04-0784), and orthorhombic Au2O3 (JCPDS 43-1039). The ZnO-associated peaks are attributed to the ZnO nanowires. In addition, we s
Who is interested in the process?
Alongside traditional methods of processing and preserving food, the technology of food irradiation is gaining more and more attention around the world. Although regarded as a new technology by some individuals, research on food irradiation dates back to the turn of the century with the first USA and British patents being issued in 1905 for the use of ionizing
1. Cleaning
- For elimination particle
2. Deposition
- Formation some material layer on the substrate
3. Photolithography
- Formation some pattern
4. Etching
- Elimination substrate or PR layer
Material to be evaporated is heated to
increase vapor pressure
In a reasonably high vacuum, material
atoms fly to a target and stick onto the
surface
Source materi
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
반도체 IC의 제조에 있어 기판 위에 형성되어 있는 층(산화 공정이나 박막증착 공정의 결과로)을 선택적으로 제거하는 공정을 사진식각(photolithography) 공정이라 한다. 이중 사진공정은 마스크(mask) 상의 기하적 모형(pattern)을 반도체 웨이퍼의 표면에 도포되어 있는 얇은 감광재료(photoresist)로 옮겨 놓는